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pvd真空電鍍的基本原理主要是物理學氣相沉積，是當今國際上廣泛運用的先進的表麵處理技術。其原理便是在真空條件下，利用氣體放電使汽體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用下把蒸發物或其生成物沉積在基材上。

pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清潔的特性，尤其具備膜層粘合力強、繞性好、可鍍材料普遍等優勢。 選用全球先進的磁控濺射離子麻豆专区1区二区和多弧離子麻豆专区1区二区工藝技術，及在這個基礎上與國際專家的工藝自主創新。憑借在裝飾鍍領域二十多年的可貴工作經驗，為客人給予合適的金屬塗層生產国产麻豆三级片計劃方案。

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