PVD真空離子鍍鍍 層附著性能好

普通真空麻豆专区1区二区時，在工件表麵與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可達四至五微米，對離子鍍後的工件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生,可見附著多麽牢固，膜層均勻，致密。

PVD真空離子麻豆专区1区二区繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空麻豆专区1区二区隻能在直射方向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合於鍍複零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空麻豆专区1区二区隻能鍍直射表麵，蒸發料粒子尤如攀登雲梯一樣，隻能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背麵和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑範圍內的任何地方。

PVD真空離子鍍鍍層質量好

PVD真空離子麻豆专区1区二区 鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和凹槽都可均勻鍍複，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍複，有高硬度、高耐磨性（低摩擦係數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。