PVD真空鍍和CVD化學鍍 都是當前表麵處理較常用的處理方式，CVD化學鍍是基於化學的氣相沉積，而PVD真空鍍是基於物理氣相沉積，由於他們在原理上有所區別，造成了其在最終塗層結果也不同，在應用上各有側重。

PVD相比CVD要薄，CVD的塗層厚度是10~20μm， 而PVD的塗層厚度隻有3~5μm 左右，甚至更薄。PVD的處理溫度大概在150~500℃之間，而CVD的爐內溫度在800~1000℃。由此可見，正因為溫度很高，所以CVD 對其被處理的材料有耐高溫的要求。

除此之外，CVD塗層由於其厚度較厚，處理溫度較高，在冷卻時表麵容易產生拉應力，從而形成細微的裂縫。這些裂縫在受到外力衝擊的情況下容易擴展，一旦擴展到貫穿整個塗層時就會發生塗層剝落， 從而使工件基體失去塗層的保護，此時CVD塗層由於厚度帶來的耐磨特性就會體現的很明顯。

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