PVD真空電鍍技術是真空應用技術的重要分支，已廣泛應用於光學、電子學、能源開發、理化儀器、建築機械、包裝民用產品表麵科學研究等領域。PVD真空電鍍技術主要包括蒸發電鍍、濺射電鍍、離子電鍍、束流沉積電鍍和分子束延伸。此外，還有化學氣相沉積法。如果真空電鍍的目的是改變物質表麵的物理、化學性能，那麽該技術是真空表麵處理技術的重要組成部分。現在簡要介紹一下在元件方麵的應用。

在元件方麵，真空蒸發鎳鉻、鉻或金屬陶瓷可以產生電阻，鋁、氧化矽、二氧化鈦可以產生電容器，可用蒸發硒獲得靜電複印機的硒鼓，蒸發鈦酸鋇可以產生磁膨脹收縮聲元件等。該方法還可以用來製備超導薄膜和慣性約束巨變反應的微珠電鍍。

此外，智能穿戴、珠寶、鍾表外殼表麵、紡織金屬圖案、金絲、銀絲等蒸汽裝飾膜也可用於製造超硬膜、濺射鍍或離子鍍刀具和模具。鈦產品近兩年興起，如不鏽鋼板、鏡板、包柱、扶手、床架、樓梯欄杆等。

如想了解更多有關PVD真空電鍍技術的知識，歡迎致電18018743855