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磁控濺射麻豆专区1区二区真空室內的工藝流程
來源: | 發布日期:2022-01-01

         磁控濺射麻豆专区1区二区廠家,收到來料電鍍的產品先是檢驗,再上掛清洗,清洗是很重要的一個步驟,貨品清洗潔淨度不夠,會直接影響膜層的附著力,這是PVD電鍍廠家的大忌。產品清洗後,進入密閉真空室內工藝流程是怎樣的呢?

        第一,采用輝光放電產生的氬離子清洗工件,向真空室內充入氬氣,放電電壓為1000V左右,接通電源產生輝光放電,用氬離子轟擊清洗工件

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        第二,鍍氮化鈦膜層,磁控濺射麻豆专区1区二区開啟鈦靶電源後產生輝光放電,高能的氬離子轟擊濺射靶材,從靶材上濺射出鈦原子,通入反應氣體氮氣,鈦原子和氮氣在直空室內被電離成鈦離子、氮離子,在工件所加負偏壓電場的吸引下,離子加速到工件表麵沉積生成氮化鈦膜層。

       第三,達到預設的膜層厚度以後,關閉磁控濺射麻豆专区1区二区機的電源,偏壓電源,氣體源。待產品溫度低於120度以後,向真空室內通入空氣,取出電鍍產品。

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