磁控濺射麻豆专区1区二区 工藝保持真空腔至關重要，尤其是保持濺射係統清潔。潤滑油、灰塵和以前的塗層形成的任何殘留物都會聚集水分和其他汙染物，直接影響真空度並增加成膜失敗的可能性。靶材短路或起弧、成膜表麵粗糙、化學雜質含量過高等原因往往是濺射室、濺射槍、靶材不幹淨造成的。

1. 為保持鍍層的成分特性，濺射氣體（氬氣或氧氣）必須清潔幹燥。基板安裝在濺射室後，必須抽出空氣以達到工藝所需的真空度。

2、暗區屏蔽罩、空腔壁、相鄰麵也需要保持清潔。清潔真空腔時，建議使用玻璃球拋丸法處理髒件。早期可使用壓縮空氣清除型腔周圍的濺射殘留物。

3. 使用目標時不要用手直接接觸目標。在使用目標之前，請戴上幹淨且不起毛的防護手套。不要用手直接接觸目標。

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